Improvement of InN layers deposited on Si(111) by RF sputtering using a low-growth-rate InN buffer layer

  1. Valdueza-Felip, S.
  2. Ibáñez, J.
  3. Monroy, E.
  4. González-Herráez, M.
  5. Artús, L.
  6. Naranjo, F.B.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2012

Volumen: 520

Número: 7

Páginas: 2805-2809

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.TSF.2011.12.034 GOOGLE SCHOLAR
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