Development of two-step etching approach for aluminium doped zinc oxide using a combination of standard HCl and NH4Cl etch steps

  1. Fernández, S.
  2. Pust, S.E.
  3. Hüpkes, J.
  4. Naranjo, F.B.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Any de publicació: 2012

Volum: 520

Número: 14

Pàgines: 4678-4684

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/J.TSF.2011.10.190 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus