Development of two-step etching approach for aluminium doped zinc oxide using a combination of standard HCl and NH4Cl etch steps

  1. Fernández, S.
  2. Pust, S.E.
  3. Hüpkes, J.
  4. Naranjo, F.B.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 2012

Ausgabe: 520

Nummer: 14

Seiten: 4678-4684

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/J.TSF.2011.10.190 GOOGLE SCHOLAR