Development of two-step etching approach for aluminium doped zinc oxide using a combination of standard HCl and NH4Cl etch steps

  1. Fernández, S.
  2. Pust, S.E.
  3. Hüpkes, J.
  4. Naranjo, F.B.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2012

Volumen: 520

Número: 14

Páginas: 4678-4684

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.TSF.2011.10.190 GOOGLE SCHOLAR
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